多入射角激光椭偏仪
高端研发领域的多入射角激光椭偏仪，采用多项专利技术，仪器硬件和软件具有多项定制功能设计，适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。
产品特点： 1.高精度、高稳定性 2.一体化集成设计 3.测量简单 4.快速、高精度样品方位对准 5.多角度测量 6.实时测量 7.丰富的材料库及物理模型 8.强大的数据分析和管理功能
应用领域： 可应用于纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质及金属处理等。可对纳米层构样品的薄膜厚度和折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适用于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控，可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构模系，以及块状材料（基底）。
技术指标：
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激光波长 |
632.8nm(He-Ne laser) |
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膜层厚度精度 |
0.01nm(对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层 |
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折射率精度 |
1x10-4 （对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层 |
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光学结构 |
PSCA |
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激光光束直径 |
<1mm |
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入射角度 |
40°-90°可选，步进5° |
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样品方位调整 |
三维平移调节；±6.5mm（X-Y-Z三轴） 二维俯仰调节：±4° 光学自准直系统对准 |
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样品台尺寸 |
Φ 170mm |
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单次测量时间 |
0.2s |
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推荐测量范围 |
0-6000nm |
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**外形尺寸（长x宽x高） |
887x332x552mm(入射角为90°时 |
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仪器重量（净重） |
25kg |
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