出售韩一HVC-2700DA光学镀膜机 电子束蒸发电镀机 鞋标真空电镀膜机 PVC纳米镀膜机 AR高透膜镀膜机
一,明细介绍:
**6年 - 2018年
EB(电子枪) 1GUN.。韩一 12六
高于源 韩一。(霍尔)
机板泵 爱德华EM275
罗获系 爱德华EM2600
深冷 韩国V-PLUS1000H
品控 XTC+2个品控
阻蒸 1个
二,镀膜机操作步骤
打开总开关,包括冷却水开关和机器开关。
打开镀膜机总开关,样品旋转开关,升降开关按钮。
将玻璃基板至于样品托中,导电一面向下。
蒸镀室、预处理室放气。
打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向关,逆时针方向开),推拉杆推至大真空室中,将样品放到推拉杆上,将推拉杆拉回至预处理中。关闭闸板阀(顺时关闭,逆时针开)
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一,主要技术指标:
UPS射频源,精控,单枪,光学膜厚仪监控波长范围:400-1100nm,波长精度:<±1nm, 配置离子源,离子流密度分布均匀; 基底**加热温度:300℃。 目前可淀积材料包括:SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O**l2O3等 蒸发速率0.**/s-20A/s, 工作真空:5E-6mbar, 气体(Ar、O2)
五,主要功能:
主要用于可见~短波红外波段光学增透膜、高反膜、截止滤光片,窄带、超窄带、极窄带滤光片等光学薄膜蒸镀,配备两把电子枪和等离子体辅助源,一次可蒸镀多片不同尺寸(1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等)的样品。
六,真空蒸发镀膜原理
1.1 将膜材置于真空镀膜室内 , 通过蒸发源使其加热蒸发 。 当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后 , 蒸发的粒子从蒸发源表面上逸出 , 在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子 ( 主要是残余气体分子)的碰撞阻碍,可直接到达基片表面上凝结而生成薄膜。
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